경제타임스 이준오 기자 | 이재용 삼성전자 회장이 국내 반도체 사업장을 찾아 연구개발(R&D) 현황을 점검하고, 임직원 성과 보상 방안을 확정했다. 고대역폭메모리(HBM) 중심의 실적 개선 흐름 속에서 기술 경쟁력과 조직 안정에 동시에 무게를 둔 행보로 해석된다.
삼성전자에 따르면 이 회장은 12월22일 경기 기흥과 화성에 위치한 반도체 사업장을 방문해 메모리와 파운드리 주요 생산라인, 차세대 연구단지 ‘NRD-K’ 등을 살폈다. 이번 방문은 최근 미국 출장을 마치고 귀국한 이후 이뤄진 국내 일정으로, 내년 반도체 사업 전략과 중장기 기술 방향을 점검하기 위한 차원으로 전해졌다.
기흥캠퍼스는 삼성전자가 반도체 사업에 본격 진출한 이후 핵심 거점 역할을 해온 곳이다. 1990년대 초 세계 최초 64Mb D램을 개발하며 메모리 시장에서 경쟁력을 확보한 상징적 사업장이기도 하다. 최근 완공된 NRD-K는 메모리와 시스템반도체, 파운드리 연구 기능을 아우르는 통합 연구 거점으로, 차세대 반도체 기술 확보를 위한 기반 시설로 평가받고 있다.
이 회장은 현장에서 근원 기술 연구와 제품 개발, 생산 인프라 구축 현황 등을 보고받고 주요 프로젝트 진행 상황을 점검한 것으로 알려졌다. 업계에 따르면 HBM 관련 글로벌 고객사 협력 현황과 차세대 공정 기술 논의도 점검 대상에 포함된 것으로 전해진다.
같은 날 삼성전자는 디바이스솔루션(DS)부문 임직원들에게 올해 하반기 목표달성장려금(TAI)을 기본급의 100% 수준으로 지급한다고 공지했다. 메모리사업부의 경우 상반기 지급률보다 크게 상향된 수준으로, 최근 반도체 실적 회복 흐름을 반영한 결정이라는 평가다.
시장에서는 인공지능(AI) 관련 수요 확대와 메모리 가격 반등이 실적 개선에 영향을 미쳤다는 분석을 내놓고 있다. 증권가에서는 하반기 메모리 부문 실적이 상반기 대비 크게 개선될 가능성을 점치면서도, 글로벌 경기와 반도체 업황 변동성에 대한 점검이 필요하다는 의견도 함께 제기된다.
재계 관계자는 “이번 현장 점검은 반도체 기술 경쟁력과 사업 전략을 직접 확인하는 동시에 조직 안정과 사기 진작을 고려한 행보로 볼 수 있다”며 “실적과 기술, 인재 관리 측면을 함께 살핀 일정”이라고 말했다.
